A lithographic apparatus having a contaminant trapping system, a contaminant trapping system, a device manufacturing method, and a method for trapping of contaminants in a lithographic apparatus

WO2006049489 Art A1 11. Mai 2006

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006049489
Aktenzeichen: EP05787319
Anmeldetag: 19. September 2005
Veröffentlichung: 11. Mai 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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