Cmp Composition Containing Surface-Modified Abrasive Particles

WO2006052434 Art A1 18. Mai 2006

Anmelder: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006052434
Aktenzeichen
EP05818276
Anmeldetag
21. Oktober 2005
Veröffentlichung
18. Mai 2006
Rechtsraum
WO
IPC
C09G1/02C09K3/14H01L21/304H01L21/306C09C1/30
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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