Wiring/electrode and sputtering target

WO2006057312 Art A1 1. Juni 2006

Anmelder: TOSOH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006057312
Aktenzeichen: EP05809760
Anmeldetag: 24. November 2005
Veröffentlichung: 1. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28C23C14/34H01L21/285H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOSOH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

1.003 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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