Method for forming thin film, deposition source substrate and method for producing the same

WO2006057353 Art A1 1. Juni 2006

Anmelder: Kyoto University, Pioneer Design Corporation, NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION, MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006057353
Aktenzeichen: EP05809584
Anmeldetag: 25. November 2005
Veröffentlichung: 1. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kyoto University
Pioneer Design Corporation
NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION
MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyoto University

Renommierte japanische Universität mit breiter Grundlagenforschung in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.706 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 NTT (Nippon Telegraph and Telephone)

Japanischer Telekommunikationskonzern mit Sitz in Tokio. NTT ist im Festnetz-, Mobilfunk- und Datennetzgeschäft aktiv und entwickelt Technologien für Netzwerkinfrastruktur, Glasfaser, Cloud-Dienste und Informations- und Kommunikationssysteme.

8.844 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

2.926 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von