Photosensitive resin composition, photosensitive film for permanent resist, method for forming resist pattern, printed wiring board, and semiconductor device

WO2006057385 Art A1 1. Juni 2006

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006057385
Aktenzeichen: EP05809659
Anmeldetag: 28. November 2005
Veröffentlichung: 1. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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