Method and system for performing in-situ cleaning of a deposition system

WO2006057707 Art A1 1. Juni 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, International Business Machines Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006057707
Aktenzeichen: EP05802904
Anmeldetag: 3. Oktober 2005
Veröffentlichung: 1. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/448C23C16/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
International Business Machines Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

12.044 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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