Multilevel fabrication processing by functional regrouping of material deposition, lithography, and etching

WO2006058150 Art A2 1. Juni 2006

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006058150
Aktenzeichen: EP05852116
Anmeldetag: 22. November 2005
Veröffentlichung: 1. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

5.635 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von