Improved photolithography device and method for producing patterns with sloped edges
WO2006059030
Art A1
8. Juni 2006
Anmelder: Commissariat à l'Energie Atomique 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006059030
- Aktenzeichen
- EP05818924
- Anmeldetag
- 28. November 2005
- Veröffentlichung
- 8. Juni 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B82B1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Commissariat à l'Energie Atomique
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Die Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives (CEA) ist eine französische staatliche Forschungseinrichtung mit Schwerpunkt Kernenergie, alternative Energien und Grundlagenforschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Software, Energietechnik und Werkstoffkunde. Anmeldungen sind seit 2000 durchgehend belegt.
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