Method of forming film, film forming apparatus and storage medium

WO2006059602 Art A1 8. Juni 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006059602
Aktenzeichen: EP05811478
Anmeldetag: 29. November 2005
Veröffentlichung: 8. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/52C23C14/14C23C14/34C23C16/455C23C28/02H01L21/285H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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