Heat treatment plate temperature setting method, heat treatment plate temperature setting apparatus, program, and computer readable recording medium wherein program is recorded

WO2006064697 Art A1 22. Juni 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006064697
Aktenzeichen: EP05814176
Anmeldetag: 7. Dezember 2005
Veröffentlichung: 22. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C9/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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