Systems and methods for forming nanodisks used in imprint lithography and nanodisk and memory disk formed thereby
WO2006066016
Art A2
22. Juni 2006
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006066016
- Aktenzeichen
- EP05854221
- Anmeldetag
- 15. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 22. Juni 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01F41/02B05D5/12B44C1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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