Method for manufacturing base material provided with conductor layer pattern, base material provided with conductor layer pattern and electromagnetic wave blocking member using such base material

WO2006068175 Art A1 29. Juni 2006

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006068175
Aktenzeichen: EP05820140
Anmeldetag: 21. Dezember 2005
Veröffentlichung: 29. Juni 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01B13/00B32B7/02B32B15/08H05K9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von