Vorrichtung zum Verdampfen von Kondensierten Stoffen

WO2006069921 Art A2 6. Juli 2006

Anmelder: AIXTRON Aktiengesellschaft 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006069921
Aktenzeichen: EP05817404
Anmeldetag: 16. Dezember 2005
Veröffentlichung: 6. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON Aktiengesellschaft
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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