Pattern defect inspection method and semiconductor device manufacturing method

WO2006075687 Art A1 20. Juli 2006

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006075687
Aktenzeichen: EP06711634
Anmeldetag: 13. Januar 2006
Veröffentlichung: 20. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01B11/30G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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