Low-pressure removal of photoresist and etch residue

WO2006076085 Art A2 20. Juli 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006076085
Aktenzeichen: EP05852632
Anmeldetag: 2. Dezember 2005
Veröffentlichung: 20. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/461H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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