Verfahren zum Selbstlimitierenden Abscheiden ein oder mehrerer Monolagen sowie Dazu Geeignete Ausgangsstoffe

WO2006076987 Art A1 27. Juli 2006

Anmelder: AIXTRON AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006076987
Aktenzeichen: EP05856224
Anmeldetag: 7. Dezember 2005
Veröffentlichung: 27. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/314C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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