Method and apparatus for producing high purity silica powder, and high purity silica powder

WO2006077717 Art A1 27. Juli 2006

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006077717
Aktenzeichen: EP05820233
Anmeldetag: 26. Dezember 2005
Veröffentlichung: 27. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C03B20/00B09B5/00C01B33/18C03B8/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von