Measurement method, measurement system, inspection method, inspection system, exposure method, and exposure system

WO2006078025 Art A1 27. Juli 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006078025
Aktenzeichen: EP06712204
Anmeldetag: 24. Januar 2006
Veröffentlichung: 27. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G01B11/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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