Offset Partial Ring Seal in Immersion Lithographic System

WO2006078292 Art A1 27. Juli 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006078292
Aktenzeichen: EP05749430
Anmeldetag: 18. Mai 2005
Veröffentlichung: 27. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03B27/52G03B27/42

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von