Single mask mim capacitor and resistor with in trench copper drift barrier

WO2006078815 Art A2 27. Juli 2006

Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006078815
Aktenzeichen: EP06718898
Anmeldetag: 18. Januar 2006
Veröffentlichung: 27. Juli 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8242

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Texas Instruments Incorporated
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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