Method for forming resist pattern, supercritical processing liquid for lithography process and method for forming antireflection film
WO2006080429
Art A1
3. August 2006
Anmelder: NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION, TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006080429
- Aktenzeichen
- EP06712466
- Anmeldetag
- 27. Januar 2006
- Veröffentlichung
- 3. August 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/38G03F7/11H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NTT (Nippon Telegraph and Telephone)
Japanischer Telekommunikationskonzern mit Sitz in Tokio. NTT ist im Festnetz-, Mobilfunk- und Datennetzgeschäft aktiv und entwickelt Technologien für Netzwerkinfrastruktur, Glasfaser, Cloud-Dienste und Informations- und Kommunikationssysteme.
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