Method and apparatus for monolayer deposition (mld)

WO2006081023 Art A2 3. August 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006081023
Aktenzeichen: EP05857171
Anmeldetag: 21. Dezember 2005
Veröffentlichung: 3. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C30B25/14C30B15/16C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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