Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von aus mehreren Komponentenhalbleitern Bestehende Schichtenfolgen

WO2006082118 Art A1 10. August 2006

Anmelder: AIXTRON Aktiengesellschaft 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006082118
Aktenzeichen: EP06704167
Anmeldetag: 5. Januar 2006
Veröffentlichung: 10. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C30B25/02C30B25/08C23C16/54C23C14/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON Aktiengesellschaft
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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