Compound for resist and radiation-sensitive composition

WO2006082796 Art A1 10. August 2006

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006082796
Aktenzeichen: EP06712644
Anmeldetag: 31. Januar 2006
Veröffentlichung: 10. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C07C49/755C07C69/738G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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