A physical vapor deposition plasma reactor with rf source power applied to the target
WO2006083929
Art A2
10. August 2006
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006083929
- Aktenzeichen
- EP06720040
- Anmeldetag
- 30. Januar 2006
- Veröffentlichung
- 10. August 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J19/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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