Method for manufacturing capacitor, method for manufacturing semiconductor device and apparatus for manufacturing semiconductor device

WO2006085427 Art A1 17. August 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006085427
Aktenzeichen: EP06711573
Anmeldetag: 12. Januar 2006
Veröffentlichung: 17. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/822H01L21/316H01L21/8246H01L27/04H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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