Thin film laminate structure, method for formation thereof, film formation apparatus, and storage medium

WO2006085447 Art A1 17. August 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006085447
Aktenzeichen: EP06712602
Anmeldetag: 30. Januar 2006
Veröffentlichung: 17. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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