Temperature setting method for heat treating plate, temperature setting device for heat treating plate, program and computer-readable recording medium recording program
WO2006085527
Art A1
17. August 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006085527
- Aktenzeichen
- EP06713203
- Anmeldetag
- 7. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 17. August 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F7/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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