Method and composition for polishing a substrate

WO2006086265 Art A2 17. August 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006086265
Aktenzeichen
EP06720300
Anmeldetag
2. Februar 2006
Veröffentlichung
17. August 2006
Rechtsraum
WO
IPC
C09G1/04H01L21/321
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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