Storage element matrix, method for manufacturing such storage element matrix and semiconductor storage device using such storage element matrix

WO2006087798 Art A1 24. August 2006

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006087798
Aktenzeichen: EP05719269
Anmeldetag: 18. Februar 2005
Veröffentlichung: 24. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8242H01L27/108

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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