Positive resist composition and method of forming resist pattern

WO2006087865 Art A1 24. August 2006

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006087865
Aktenzeichen
EP05816409
Anmeldetag
13. Dezember 2005
Veröffentlichung
24. August 2006
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/039G03F7/004H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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