Temperature setting method for heat treating plate, temperature setting device for heat treating plate, program and computer-readable recording medium recording program

WO2006087938 Art A1 24. August 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006087938
Aktenzeichen: EP06713200
Anmeldetag: 7. Februar 2006
Veröffentlichung: 24. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von