Nonvolatile flash memory device and method for producing dielectric oxide nanodots on silicon dioxide
WO2006088430
Art A1
24. August 2006
Anmelder: The National University of Singapore 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006088430
- Aktenzeichen
- EP05711204
- Anmeldetag
- 17. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 24. August 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G11C11/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- The National University of Singapore
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
National University of Singapore
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