Method and system for treating a substrate with a high pressure fluid using fluorosilicic acid

WO2006088560 Art A1 24. August 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006088560
Aktenzeichen: EP05855838
Anmeldetag: 29. Dezember 2005
Veröffentlichung: 24. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00C11D11/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von