Method for treating a substrate with a high pressure fluid using a peroxide-based process chemistry

WO2006088561 Art A2 24. August 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006088561
Aktenzeichen: EP05855900
Anmeldetag: 29. Dezember 2005
Veröffentlichung: 24. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42B08B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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