Autofocus methods and devices for lithography

WO2006091482 Art A2 31. August 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006091482
Aktenzeichen: EP06735335
Anmeldetag: 17. Februar 2006
Veröffentlichung: 31. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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