Method and apparatus for euv plasma source target delivery target material handling

WO2006091819 Art A2 31. August 2006

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006091819
Aktenzeichen: EP06736029
Anmeldetag: 22. Februar 2006
Veröffentlichung: 31. August 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C8/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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