Substrate cleaning apparatus and cleaning method thereof

WO2006092994 Art A1 8. September 2006

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006092994
Aktenzeichen: EP06714277
Anmeldetag: 22. Februar 2006
Veröffentlichung: 8. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/02B08B3/08B08B3/10H01L21/304H05K3/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von