Metal double layer structure and method for manufacturing the same and regeneration method of sputtering target employing that method

WO2006093125 Art A1 8. September 2006

Anmelder: Nippon Light Metal, Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006093125
Aktenzeichen: EP06714841
Anmeldetag: 28. Februar 2006
Veröffentlichung: 8. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B23K20/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Light Metal, Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Light Metal

Nippon Light Metal ist ein japanischer Hersteller von Aluminiumprodukten. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Halbleiterbauelemente. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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