Systems and methods for cleaning a chamber window of an euv light source
WO2006093780
Art A2
8. September 2006
Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006093780
- Aktenzeichen
- EP06735890
- Anmeldetag
- 24. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 8. September 2006
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cymer, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
399 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.