Non-Dispersive High Density Polysilicon Capacitor Utilizing Amorphous Silicon Electrodes
WO2006094290
Art A2
8. September 2006
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006094290
- Aktenzeichen
- EP06737284
- Anmeldetag
- 6. März 2006
- Veröffentlichung
- 8. September 2006
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
3.600 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.