Method of making an integrated circuit by modifying a design layout by accounting for a parameter that varies based on a location within an exposure field

WO2006096232 Art A2 14. September 2006

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006096232
Aktenzeichen: EP06717773
Anmeldetag: 10. Januar 2006
Veröffentlichung: 14. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Freescale Semiconductor, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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