Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device

WO2006098369 Art A1 21. September 2006

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006098369
Aktenzeichen: EP06729154
Anmeldetag: 15. März 2006
Veröffentlichung: 21. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L21/28H01L21/8238H01L27/092H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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