Transistor device and methods of manufacture thereof

WO2006100186 Art A1 28. September 2006

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006100186
Aktenzeichen: EP06708719
Anmeldetag: 10. März 2006
Veröffentlichung: 28. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/8238H01L29/51

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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