Semiconductor device and manufacturing method thereof

WO2006101068 Art A1 28. September 2006

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006101068
Aktenzeichen: EP06729490
Anmeldetag: 20. März 2006
Veröffentlichung: 28. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/088H01L21/8234H01L27/10H01L27/11H01L21/8244

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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