Substrate treatment method, film-forming method, film-forming device, and computer program

WO2006101129 Art A1 28. September 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006101129
Aktenzeichen: EP06729677
Anmeldetag: 22. März 2006
Veröffentlichung: 28. September 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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