Method and system for facilitating the determination of the end point in plasma etching processes

WO2006106556 Art A1 12. Oktober 2006

Anmelder: STMicroelectronics Srl 🇮🇹

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006106556
Aktenzeichen: EP06728532
Anmeldetag: 4. April 2006
Veröffentlichung: 12. Oktober 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/73H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: STMicroelectronics Srl
Land: 🇮🇹 Italien

🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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