Method of forming pattern

WO2006107056 Art A1 12. Oktober 2006

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006107056
Aktenzeichen: EP06731106
Anmeldetag: 29. März 2006
Veröffentlichung: 12. Oktober 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/022G03F7/16G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von