Material for insulating film and process for producing the same

WO2006109686 Art A1 19. Oktober 2006

Anmelder: Taiyo Nippon Sanso Corporation, National Institute for Materials Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006109686
Aktenzeichen
EP06731309
Anmeldetag
6. April 2006
Veröffentlichung
19. Oktober 2006
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/312C07F7/08C07F7/18C07F7/21C23C16/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Taiyo Nippon Sanso Corporation
National Institute for Materials Science
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

828 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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