Material for pattern formation, apparatus for pattern formation, and method for pattern formation

WO2006109721 Art A1 19. Oktober 2006

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006109721
Aktenzeichen: EP06731394
Anmeldetag: 7. April 2006
Veröffentlichung: 19. Oktober 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/20H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von